薄膜晶体管是场效应晶体管的种类之一,大略的制作方式是在基板上沉积各种不同的薄膜,如半导体主动层、介电层和金属电极层,薄膜晶体管对显示器件的工作性能具有十分重要的作用。
它的工作状态可以利用Weimer表征的单晶硅MOSFET工作原理来描述。以n沟MOSFET为例,物理结构如图。当栅极施以正电压时,栅压在栅绝缘层中产生电场,电力线由栅电极指向半导体表面,并在表面处产生感应电荷。随着栅电压增加,半导体表面将由耗尽层转变为电子积累层,形成反型层。
采用NCE独有的沟槽设计和先进的FS (field stop)第二代技术,1200V沟槽FS II IGBT具有优越的导通和开关性能,易于并行操作;
薄膜晶体管NCE40TD120T特性:
海沟FSII技术提供
非常低的VCE(坐)
高速开关
正温度系数的VCE(坐)
非常紧参数分布
强度高,温度稳定
薄膜晶体管NCE40TD120T应用程序:
变频器
不间断电源
太阳能逆变器
焊接转换器
绝对最大额定值(TC=25℃,除非另有说明):